Optimierung von Halbleiterprozessen für MEMS- und Leistungshalbleiter
Weiterentwicklung von Einzelprozessen im Bereich Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) und Atomic Layer Deposition (ALD), mit Fokus auf neue Anforderungen, Prozessqualität und Ausbeute
Mitwirkung bei der Evaluierung, Entwicklung und Einführung neuer Fertigungsverfahren und -anlagen
Mitarbeit bei der Konzeption, Koordination und Auswertung von Versuchen in Zusammenarbeit mit internen und externen Partnern
Entwicklung von Maßnahmen zur Prozessflexibilisierung und Kostensenkung sowie Planung und Begleitung der Implementierung in der Fertigung
Durchführung von Wirtschaftlichkeitsanalysen und Kostenvergleichen für neue Verfahren, Technologien und Anlagen unter technischen und zukunftsorientierten Gesichtspunkten
Beratung interner Fachbereiche und Unterstützung bei der Anlagenbeschaffung – von der Spezifikation bis zur Inbetriebnahme und Abnahme
Koordination und Nachverfolgung von Optimierungen mit Anlagenherstellern sowie Erstellung interner Dokumentationen und Verfahrensanweisungen
Anforderungen
Abgeschlossenes Hochschulstudium (Master, Diplom oder Promotion) in Chemie, Materialwissenschaft, Verfahrenstechnik, Physik oder einem vergleichbaren Studiengang
Berufserfahrung im Bereich Halbleiterprozesse oder MEMS; eine Promotion wird als gleichwertige Qualifikation anerkannt
Fundierte Kenntnisse und praktische Erfahrung in der Halbleitertechnologie sowie der Anlagentechnik
Erfahrung mit statistischer Prozesskontrolle (SPC), Datenanalyse und Datenauswertung
Praxis in der Entwicklung oder Produktion von CVD- und ALD-Einzelprozessen im Halbleiter- oder MEMS-Bereich
Fachliche und praktische Kenntnisse in der Oberflächenbeschichtung, Dünnschichttechnologie und deren Charakterisierung
Sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift